دانلود مقاله و خرید ترجمه:تکنولوژی نيمه هادى اکسيد فلزى تکميلى-نانو وایر-سیلیکون با ولتاژ قابل تنظیم و مستقل به عامل ناخالصی برای کاربردهای منطقی قابل تنظیم مجدد
بلافاصله پس از پرداخت دانلود کنید

کارابرن عزیز، مقالات سایت ( همگی جزو مقالات isi می باشند) بالاترین کیفیت ترجمه را دارند، ترجمه آنها کامل و دقیق می باشد (حتی محتوای جداول و شکل های نیز ترجمه شده اند) و از بهترین مجلات isi مانند IEEE، Sciencedirect، Springer، Emerald و ... انتخاب گردیده اند.

ورود اعضا
توجه توجه توجه !!!!
تمامی مقالات ترجمه شده ، انگلیسی و کتاب های این سایت با دقت تمام انتخاب شده اند. در انتخاب مقالات و کتاب ها پارامترهای جدید بودن، پر جستجو بودن، درخواست کاربران ، تعداد صفحات و ... لحاظ گردیده است. سعی بر این بوده بهترین مقالات در هر زمینه انتخاب و در اختیار شما کاربران عزیز قرار گیرد. ضمانت ما، کیفیت ماست.
نرم افزار winrar

از نرم افزار winrar برای باز کردن فایل های فشرده استفاده می شود. برای دانلود آن بر روی لینک زیر کلیک کنید
دانلود

پیشنهادات ویژه
پکیج ویژه مقالات محاسبات ابری
پکیج ویژه مقالات زنجیره تامین
پیوندهای کاربردی
پیوندهای مرتبط
مقالات ترجمه شده برق الکترونیک
  • تکنولوژی نيمه هادى اکسيد فلزى تکميلى-نانو وایر-سیلیکون با ولتاژ قابل تنظیم و مستقل به عامل ناخالصی برای کاربردهای منطقی قابل تنظیم مجدد

    سال انتشار:

    2010


    ترجمه فارسی عنوان مقاله:

    تکنولوژی نيمه هادى اکسيد فلزى تکميلى-نانو وایر-سیلیکون با ولتاژ قابل تنظیم و مستقل به عامل ناخالصی برای کاربردهای منطقی قابل تنظیم مجدد


    عنوان انگلیسی مقاله:

    Dopant-Independent and Voltage-Selectable Silicon Nanowire-CMOS Technology for Reconfigurable Logic Applications


    منبع:

    Solid-State Device Research Conference (ESSDERC), 2010 Proceedings of the European, 365 – 367


    نویسنده:

    Frank Wessely, Tillmann Krauss, Udo Schwalke


    چکیده انگلیسی:

    In this paper, we report on the fabrication and characterization of a novel voltage-selectable (VS) nanowire (NW) CMOS technology suitable to extend the flexibility in circuit design and reconfigurable logic applications. Silicon NWstructures with Schottky-S/D-junctions on silicon-on-insulator (SOI) substrate are used to realize dopant-independent unipolar CMOS-like transistors. A selection of the device type (PMOS or NMOS) is performed by application of an appropriate back-gate bias. The versatile programming capability of this approach is demonstrated in a VS-NW-CMOS inverter set-up.


    چکیده فارسی:

    در این مقاله، ما مشخصات ساخت یک تکنولوژی CMOS نانووایر با قابلیت تنظیم ولتاژ، به منظور بالا بردن انعطاف در طراحی مدار و کاربردهای منطقی قابل تنظیم مجدد را گزارش می دهیم. ساختارهای NW سیلیکونی با اتصالات Schotty_S/D روی لایه سیلیکون-بر-عایق (SOI)، به منظور ساخت ترانزیستورهای CMOS-مانند تک قطب نابسته به عامل ناخالصی استفاده شده اند. انتخاب نوع وسیله (PMOS یا CMOS) با بکاربری یک بایاس بک-گیت انجام شده است. قابلیت برنامه نویسی چند بعدی این روش در ساخت اینورتر VS-NW-CMOS نشان داده شده است.


    سطح: متوسط
    تعداد صفحات فایل pdf انگلیسی: 3
    تعداد صفحات فایل doc فارسی: 10

    وضعیت ترجمه عناوین تصاویر و جداول: به صورت کامل ترجمه شده است

    وضعیت ترجمه متون داخل تصاویر و جداول: به صورت کامل ترجمه شده است

    حجم فایل: 225 کیلوبایت


    قیمت: 12000 تومان  10800 تومان(10% تخفیف)


    توضیحات اضافی:




تعداد نظرات : 0

الزامی
الزامی
الزامی
-برق-الکترونیک
موضوعات
footer